핵심 기능 및 주요 애플리케이션

불활성 보호(항산화/수분 방지): 화학적으로 안정적인 질소는 산소와 습기를 분리하여 실리콘 웨이퍼, 금속 배선, 포토레지스트와 같은 민감한 재료의 산화나 오염을 방지합니다. 일반적인 시나리오에는 웨이퍼 보관/운송, 포토레지스트 코팅, CVD/ALD 박막 증착, 급속 열 어닐링(RTA) 및 와이어 본딩이 포함됩니다.

공정 제어 및 운반 가스: 이는 전구체를 운반하는 운반 가스 역할을 하여 반응 챔버로 균일한 전달을 보장합니다. 또한 플라즈마를 안정화하고, 반응 속도를 조절하며, 에칭 프로파일 정밀도는 물론 박막 균일성을 향상시키는 희석 또는 배경 가스 역할도 합니다. 일반적인 시나리오에는 CVD/ALD, 플라즈마 에칭 및 이온 주입 버퍼링이 포함됩니다.

퍼지 및 정제: 교차 오염을 방지하기 위해 장비 챔버 및 파이프라인의 잔류 물질을 철저하게 제거합니다. 또한 클린룸 내에서 양압을 유지하고 보호용 에어 커튼 장벽을 구축합니다. 일반적인 시나리오에는 리소그래피/에칭 도구의 챔버 전환, 가스 라인 전환 및 클린룸 양압 유지 관리가 포함됩니다.

보조 및 특수 용도: 고온 공정 중 칩 보호 SMT 리플로우 및 웨이브 솔더링 동안 솔더 산화를 억제하고 습윤성을 향상시킵니다. 레이저 가공 중 표면 산화 최소화; 고장률을 줄이기 위해 민감한 부품(예: 자기 헤드 및 LED)에 대한 불활성 보관 환경을 제공합니다.